Несколько крупнейших американских компаний, производящих полупроводниковые приборы, инвестируют 250 млн. долл. в федеральную программу по научным исследованиям и развитию (НИР) ультрафиолетовой литографии. По мнению представителей индустрии и федерального правительства, это может привести к созданию еще более быстрых микропроцессоров.

Будущие инвестиции

  • Обязательства инвесторов: Intel, AMD и Motorola инвестируют 250 млн. долл. в федеральную программу исследований и разработок, в том числе:
  • 130 млн. долл. на покрытие расходов лабораторий;
  • 120 млн. долл. — на ресурсы, материалы и оплату труда специалистов.

На конференции, проходившей в Музее технических изобретений, министр энергетики США Федерико Пена объявил о создании группы, которая займется НИР по технологии литографии с применением наиболее высокочастотного ультрафиолетового излучения — Extreme Ultraviolet Lithography.

Инвесторы, в числе которых Intel, Advanced Micro Devices и Motorola, пообещали внести 130 млн. долл. для покрытия расходов трех работающих над проектом лабораторий при Министерстве энергетики США, и 120 млн. долл. — на оплату ресурсов, материалов, оборудования и труда специалистов.

Министр Пена отметил, что инвестиции, которые поступят для финансирования этого федерального проекта в рамках трехлетнего партнерского соглашения, станут самыми крупными из всех, какие частные компании когда-либо вносили в правительственные исследования. Цель этого проекта — помочь полупроводниковой индустрии США остаться лидером на мировом рынке микропроцессоров.

Согласно статистическим данным, представленным Пеной, в 2002 г. у VAR’ов есть реальные шансы получить процессоры, которые будут иметь в 100 раз большую вычислительную мощность и память в 1000 раз более емкую, чем лучшие сегодняшние микросхемы.

Современная технология производства полупроводниковых микросхем «продержится» еще не более двух поколений, заявил Гордон Мур, почетный председатель правления Intel. Ультрафиолетовый свет, излучаемый аппаратами, одни только линзы которых весят около тонны, используется для нанесения трафаретов микросхемы на подложку.

«Проблема в том, что нельзя получить изображение, которое было бы намного меньше длины волны света, применяемого для его создания», — добавил он.

На данный момент процессоры производятся по 0,25-мкм технологии. Следующие два поколения процессоров — по 0,18 и 0,13-мкм технологии — поступят в массовое производство в срок от полугода до двух с половиной лет. Помимо обычной системы оптической литографии «для производства процессоров нам нужно что-то еще», — признал Мур.

Возможно, что следующей технологией оптической литографии, которую примут на вооружение производители полупроводниковых микросхем, станет технология теневого трафарета с рентгеновскими лучами, создающая изображение при помощи электронных лучей и жесткого ультрафиолетового излучения (EUV).

Компании, вкладывающие средства в это партнерство частного капитала и федеральных исследований, «считают, что EUV — это серьезный претендент на лидерство», — сказал Мур. Национальные лаборатории провели ряд исследований, доказавших, что EUV — перспективная концепция.

При этом Мур надеется, что не прекратятся разработки и других технологий, «пока не станет ясно, кто победил». Например, IBM инвестировала немалые средства на развитие технологии рентгеновского излучения, а Bell Laboratories исследует технологию записи при помощи электронного луча.

Исследованиями EUV занимаются Национальные лаборатории Lawrence Livermore, Lawrence Berkley и Sandia. Их задача — совершить прорыв в области EUV, сказал министр Пена.